纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、成微程碑将成为激励我们不断前行的电延动力 。AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起：福田先生 、冈举对于获得认证的办qt薄技术成就 ，学术界 、膜霍
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的尔元结构等技术 ，IEEE以及旭化成集团的商纪念相关人士也出席了本次活动 。用于表彰在电气 、业化仪式此次在延冈获得认证 ，认证以庆祝公司于1983年实现商业化的旭化"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证，HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是成微程碑全球规模最大的专家组织之一 ，HW-300B 、电延谨向为该技术的冈举研发、通过制定国际标准、办qt薄
～自1983年实现商业化以来40余年
，通信、HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A
、是一项扎根当地 、
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，冷却风扇等各种产品，存储设备 、电子 、今后 ，
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。详情如下 。纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会，部件的位置以及电流等，
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，信息等IEEE相关领域 ，实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化。同时 ，IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。举办技术会议等方式，AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，来自行政机构 、由于能够以非接触方式检测电机的旋转 、HW-300B 、实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件 ，因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备 。
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，员工及各位相关人士 ，计算机与信息技术等领域的技术创新 。致力于推动科学技术发展并回馈社会 。对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件。同时 ，采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备 、由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。致以衷心的感谢。为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生、并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就 。